説明

技術仕様

• 化学成分： Si ≥ 99.9% ～ 99.99%
• 粒子径範囲： D50 = 1μm ～ 100μm（ご要望に応じてカスタマイズ可能）
• 形態： 微粉末 ～ 顆粒
• CAS番号： 7440-21-3
• 製造方法： 乾式ジェットミル

製品特長

1. 高純度
   • シリコン純度：3N～5N（99.9%～99.999%）
   • 金属不純物濃度は厳格に管理可能
   • B、P、As、Gaなどのドーピング仕様も対応
2. 粒度のカスタマイズ
   • 標準スペックに基づき D50 の指定が可能
   • D10・D90の粒度分布もご相談に応じます
   • 微粉末から顆粒まで、用途に応じた形態をご提供
3. 優れた性能
   • 耐高温性： 高温環境でも安定性を保持し、優れた耐酸化性を発揮
   • 電気絶縁性： 電気を通しにくく、電子・半導体分野に最適
   • 耐腐食性： 水や酸素、ほとんどの酸に反応せず、化学的に非常に安定
4. 製造技術
   • 乾式ジェットミルを用いた高精度粉砕加工
   • 均一な粒度と高品質な製品を安定供給

主な用途

1. 電子・半導体産業
   • シリコン基板、集積回路、導電膜の製造
2. 耐火材料
   • 高温設備のライニング材として、冶金・鋳造分野に適用
3. 接着剤・コーティング材
   • 防腐・耐酸化用の表面コーティング材料
4. シリコーンゴム、オイル、樹脂
   • シリコーン製品（ゴム、オイル、樹脂）の基礎原料
5. 潤滑剤
   • 抗摩耗性・耐老化性を向上し、摩擦性能を強化
6. 金属冶金
   • 合金添加剤として、金属の硬度や耐腐食性を向上
7. 医薬・化学分野
   • 医薬品製造、バイオメディカル材料、食品添加物

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