熱分解窒化ホウ素ディスク & リング – PBN 部品
PBN ディスクおよびリングは、CVD 法で製造された超高純度（99.999%）部品で、均一な厚み・高強度・優れた熱安定性を持ち、OLED 蒸着、MBE 絶縁スペーサー、半導体・真空装置に最適です。
基本パラメータ
| 特性 | 数値 |
|---|---|
| 製品グレード | PBN ディスク & リング |
| 材質 | 熱分解窒化ホウ素 (PBN) |
| 純度 | 99.999% |
| 見掛け密度 | 1.95 – 2.21 g/cm³ |
| 用途 | OLED 蒸着源、MBE 絶縁部品、半導体・真空システム |
| 寸法 | ディスク：最大直径 Ø500 mm、厚さ 8 mm リング：内径/外径 カスタマイズ可能 |
製品概要
PBN ディスクおよびリングは、CVD プロセス（BCl₃ + NH₃、高温・低圧条件）によって製造され、純度は最大 99.999% に達します。均一な厚み、高強度、優れた熱安定性、低脱ガス特性を備えています。
これらの部品は、OLED 蒸着源、MBE システムにおける絶縁スペーサー、半導体および真空装置の構成部品として広く利用されています。従来の BN セラミックスと比較して、PBN はより高い純度、化学的な不活性、真空中での安定性を示し、半導体、航空宇宙、防衛、研究分野に理想的な材料です。
主な特長
• 純度 最大 99.999%
• 高温下でも極めて低い脱ガス特性
• 均一な厚みで安定した加熱を実現
• 高強度で、高温下でも変形しにくい
• 優れた熱伝導性と耐熱衝撃性
• 化学的に不活性で、酸やアルカリとも反応しない
• 電気絶縁性を持ち、真空中でも安定した性能
技術データ
| 特性 | 単位 | 代表値 |
|---|---|---|
| 格子定数 | m | a: 2.504×10⁻¹⁰ / c: 6.692×10⁻¹⁰ |
| 見掛け密度 | g/cm³ | 1.95–2.21 (板材/ルツボ) |
| ヘリウム透過率 | cm³/s | 1×10⁻¹² |
| ヌープ硬さ (ab 面) | N/mm² | 691.88 |
| 体積抵抗率 | Ω·cm | 3.11×10¹¹ |
| 引張強度 (‖ c 軸) | N/mm² | 153.86 |
| 曲げ強度 (‖ c 軸) | N/mm² | 243.63 |
| 曲げ強度 (⊥ c 軸) | N/mm² | 197.76 |
| 弾性率 | N/mm² | 235,690 |
| 熱伝導率 (200℃, a 軸) | W/m·K | 60.0 |
| 熱伝導率 (200℃, c 軸) | W/m·K | 2.60 |
| 熱伝導率 (900℃, a 軸) | W/m·K | 43.70 |
| 熱伝導率 (900℃, c 軸) | W/m·K | 2.80 |
| 絶縁破壊強度 (室温) | kV/mm | 56.0 |
| 純度 | % | ≥ 99.999 |
標準仕様
図面対応カスタム
輸送包装仕様
•内層包装：真空パック包装
•外層包装：段ボール箱
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